(Institución)
 
 

Docu-menta >

Statistics

Total Visits

Views
Desarrollo y caracterización de dispositivos P-I-N de Silicio Amorfo depositados por PECVD 1668

Total Visits per Month

May 2024 June 2024 July 2024 August 2024 September 2024 October 2024 November 2024
Desarrollo y caracterización de dispositivos P-I-N de Silicio Amorfo depositados por PECVD 13 13 17 6 8 9 5

File Downloads

Views
43581_Desarrollo_y_caracterizacion.pdf 1072

Top Country Views

Views
España 1668

Top City Views

Views
Madrid 1668

 

Información y consultas: documenta@ciemat.es | Documento legal